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盘点国产光刻产业链的“星星之火”,十三年磨一剑背后的中国芯片

发布时间:2020-12-29 03:30:19 所属栏目:评论 来源:未知
导读:副标题#e# 今年六月份有消息传出,国产光刻机龙头上海微电子将在一年内交付用于28nm制程生产的193nm ArF光刻机。 另外,据方正证券今年发布的相关研报,国家02专项光刻机项目二期曾设定,拟于2020年12月验收由上海微电子设计集成的193nm ArF浸没式DUV光刻机

另外,借力国外成熟产品或可帮助芯片制造商实现突破。2018年,我国芯片公司中芯国际花费约1.2亿美元,向阿斯麦订购了一台EUV光刻机。由于种种原因,目前,这台光刻机还未成功交付。我们期待它能够尽快落地中国,助力中国芯片事业再上一个台阶。

在严峻的外部贸易环境下,攻关光刻技术对国产芯片产业链来说意义非凡,期待相关技术攻关能够实现突破。


(编辑:开发网_开封站长网)

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